DSpace           
 

Research at Burgas Free University >
2. Издания на БСУ от международни конференции / Collection of Papers of BFU from International Conferences >
2024. Мултидисциплинарни иновации за социални промени: образователни трансформации и предприемачество >
Направления 9-10 >

Please use this identifier to cite or link to this item: http://research.bfu.bg:8080/jspui/handle/123456789/1973

Title: ВЛИЯНИЕ НА ВИСОКО ЕНЕРГИЙНО ИМПУЛСНО-ДЪГОВО КАТОДНО РАЗПРАШАВАНЕ ПРИ ОТЛАГАНЕ НА СВОБОДНИ ОТ ВОДОРОД ТЕТРАХЕДРАЛНИ АМОРФНИ ВЪГЛЕРОДНИ ПОКРИТИЯ (ta-C)
Authors: Долчинков, Ивайло
Keywords: Тетрахедрален аморфен Въглерод (ta-C)
Енергийно въздействащи йони
Импулсно-дъгова технология
sp2 (графитоподобни) към sp3 (диамантоподобни) връзки
Tetrahedral amorphous Carbon
ta-C
Energetic impinging ions
Subplantation
Pulsed arc technic
sp2 (graphite-like)
sp3 (diamond-like) bonds
Issue Date: 20-Nov-2024
Series/Report no.: Конференция 2024;с. 599-609
Abstract: Физичните свойства на отложени филми на въглеродна основа са силно зависими от съотношението на sp2 (графитоподобни) към sp3 (диамантоподобни) връзки. В “Subplantation model" на Lifshitz et al. и на Robertson, йони с достатъчна енергия при сблъскване проникват под повърхността на растящия филм, и увелича ват местната плътност. Йоните с по-ниска енергия няма да могат да проникнат под повърхността и ще образуват sp2 връзки. Следователно структурата на отло жените филми се определя главно от енергията на въздействието на въглеродните йони върху субстрата и последващия ефект на релаксация, свързан с температура та по време на отлагането. За това изследване филмите са отложени с помощта на импулсно-дъгова технология. Има ясни факти как скоростта на отлагане влияе върху нанотвърдостта и грапавостта на покритията. Установено е също така, че легиращи елементи могат значително да увеличат скороста на отлагане.
Description: The physical properties of deposited Carbon-based films are strongly dependent on the ratio of sp2 (graphite-like) to sp3 (diamond-like) bonds. In the “Subplantation model” of Lifshitz et al. and of Robertson, incident ions of sufficient energy penetrate the surface of the growing film, enter interstitial subsurface and increase the local density. The ions with lower energy will not be able to penetrate the surface and will form sp2 bonds. Thus, the structure of the deposited films is mainly determined by the energy of the impinging the substrate Carbon ions and the following relaxation effect linked with the temperature during deposition. For this study films were deposited using pulsed arc technic. There are clear facts how deposition rate influences the nano-hardness and roughness of the coatings. It was also found that dopants can significantly increase the deposition rates.
URI: http://research.bfu.bg:8080/jspui/handle/123456789/1973
ISBN: 978-619-253-038-9
Appears in Collections:Направления 9-10

Files in This Item:

File Description SizeFormat
599_609konf-bfu-2024.pdf1.71 MBAdobe PDFView/Open
View Statistics

Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.

 

Valid XHTML 1.0! DSpace Software Copyright © 2002-2010  Duraspace - Feedback